為了提高單晶硅的表面附著力，需要使用電子特氣四氟甲烷對其進行活化清洗，一般在類真空環境中進行，主要為了達到理想清潔狀態，為后續的表明涂覆做好基礎，主要應用于半導體工業以及PWB (印制線路板)工業。在整個四氟化碳電子器件表面清洗工藝流程中雖然都是在真空環境中進行的，密封性是沒有問題的，但是在整個氣相反應后卻會排放掉這些等離子電子特氣。而在現場安裝使用四氟化碳等離子清洗氣體濃度報警器就是為了對現場環境空氣中殘留積聚或泄漏的四氟化碳氣體的濃度值進行檢測，避免發生安全事故。 等離子清洗的作用并不是從名稱上看簡單的清洗，而是表面處理和反應，它是起到表面活化，改變材料表面微觀結構，起到提高附著力的作用。真空等離子清洗屬于電子工業的干法清洗，在一定的真空條件下，對四氟化碳施加足夠的能量使之電離為等離子狀態。利用等離子體處理樣品表面從而實現表面潔凈、表面改性、表面刻蝕、表面接枝的目的，最后將污染物轉換為氣相，并通過真空泵用連續氣體流將其排出。CF4(四氧化碳)是目前做電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，等離子刻蝕通常又會被稱為蝕刻、咬蝕、凹蝕等，可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料，生成CO、CO2、H2O等，從而達到蝕刻的目的。

四氟化碳等離子清洗的工作原理：
主要通過等離子體作用在材料表面后產生一系列物理及化學變化，利用等離子清洗機包含的活性粒子和高能射線，與表面有機污染物分子發生反應、碰撞，形成小分子揮發性物質，從表面移除來實現清潔效果。
(1) 物理反應 (Physical reaction) :
主要是利用等離子體的粒子作為純物理的撞擊，把材料表面的原子打掉來清除了材料表面的污染物和刻蝕作用，將材料表面變粗糙，增加表面比和潤濕性。
(2) 化學反應 (Chemical reaction) :
利用表面活化在材料表面產生新的活性基團，利用此基團與后續的活性物質產生化學共價鍵結合，后續的活性物質中帶有自夠滿足應用的特定基團，以達到既能滿足表面特性又能牢固結合的目的。

四氟化碳等離子清洗表明反應過程：
1、首先氣體被激發為等離子態；
2、通過作用讓氣相物質被吸附在固體表面；
3、被吸附物質與固體表面分子反應生成產物分子；
4、之后產物分子再解析形成氣相，以此達到反應殘余物脫離表面的效果。

四氟化碳對人體的危害性：
能引起快速窒息，接觸后可引起頭痛、惡心和嘔吐。四氟化碳，又稱作四氟甲烷、全氟甲烷、R14，化學式為CF4，在常溫常壓狀態下是一種無色無臭有輕微醚味的氣體，惰性低毒物質，在高濃度下是窒息劑，在高溫時，或與可燃氣體一同燃燒時，分解出有毒的氟化物。若人體吸入高濃度四氯化碳,可能會產生頭痛、惡心、頭昏眼花及心血管系統的破壞(主要是心臟)。

以贏潤集團研發生產的ERUN-PG51CF4固定在線式四氟化碳R14檢測報警儀和ERUN-PG71S6-CF4便攜泵吸式R14四氟化碳檢測報警儀為例，可分別針對固定安裝實時在線監測和便攜手持方便快速檢測四氟化碳CF4氣體的濃度值，并可根據需求選配風速、壓力、噪聲、PM2.5、PM10、風向、溫濕度等參數指標。 固定在線式四氟化碳氣體檢測報警儀技術參數：
產品型號：ERUN-PG51CF4
檢測氣體：四氟化碳CF4
量程范圍：0-2000ppm、1ppm、進口高精度紅外原理傳感器，其他量程、原理、分辨率可訂制
精度誤差：≤±2%F.S.（更高精度可訂制）
顯示方式：報警器2.5寸彩屏現場顯示濃度值；控制器主機9寸彩屏值班室顯示濃度值
報警方式：現場聲光報警，值班室聲光報警
數據傳輸：4-20mA、RS485，可選無線傳輸
防護功能：IP65級防水防塵
防爆功能：隔爆型，Ex d ⅡC T6 Gb級防爆 便攜手持式四氟化碳氣體報警儀技術參數：
產品型號：ERUN-PG71S6-CF4
檢測氣體：四氟化碳CF4
量程范圍：0-2000ppm、1ppm、進口高精度紅外原理傳感器，其他量程、原理、分辨率可訂制
精度誤差：≤±2%F.S.
最小顯示：0.001ppm、0.001%VOL、0.1%LEL
方法原理：電化學、催化燃燒、紅外、激光、PID光離子、熱導等
測量方式：泵吸式，流量500毫升/分鐘
顯示方式：2.5寸高清彩屏
報警方式：聲音+閃光+振動+屏幕、關閉報警可選
響應時間：T90≤20秒
工作電源：3.7 V DC，6000 mA可充放電池
數據存儲：標配10萬條，支持定時存儲或只存儲報警信息
數據傳輸：USB、RS232，可選配RS485
防護形式：IP67級防水防塵
防爆形式：Ex ia ⅡC T4 Ga級防爆
外型尺寸：178×67×40mm(L×W×H)
產品重量：350 g
溫度測量：-40℃~+120℃、精度0.5℃（選配）
濕度測量：0-100%RH、精度3 %RH（選配）
采樣手柄：1.2m可伸縮采樣手柄（選配）

以上就是關于四氟化碳電子器件表面清洗工藝流程的相關介紹，等離子體是物質的一種狀態，對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。四氟化碳等離子清洗的物理反應機制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面最終被真空泵吸走，化學反應機制是各種活性的粒子和污染物反應生成易揮發性的物質，再由真空泵吸走揮發性的物質，從而達到清洗目的。而在現場安裝使用四氟化碳等離子清洗氣體濃度報警器就是為了實現對環境空氣中排放積聚的四氟化碳CF4氣體的濃度值連續24小時不間斷實時在線監測，避免其在現場過量積聚從而引發人員安全風險。